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合状态来描述回路的条件，然后根据接点的分，合状态与设备的状态的对应关系，替换描述（如用关机构箱的“远/近控切换关”在“远方”位置来代替“远/近控切换关”在远方控制回路中的接点状态。必须逐步形成这一能力，否则看图纸将停留在原始状态，只能看到接点的分，合和继电器的是否励磁。A无法与运行中设备状态的监视和作结合起来。如何用设备的实际状态（现场能看到的设备状态）来描述回路或继电器的动作条件：先以回路的接点分。
炉筒升降采用丝杠提升技术，简便干净。特点编辑HD系列硅单晶炉的炉室采用3节设计。上筒和上盖可以上升并向两边转动。便于装料和维护等。炉筒升降支撑采用双立柱设计。即可满足转动所需的扭矩，又可实现转速的控制。质量流量计控制氩气流量。自主产权的控制软件采用视窗，操作方便简洁直观。多种曲线和数据交叉分析工具了工艺实时的。可靠性高，抗干扰性好。双摄像头实时采集晶体直径信息。液面测温确保下籽晶温度和可重复性。炉内温度或加热功率控制方式可选，保控温精度。质量流量计控制氩气流量。维护方便全自动控制系统采用模块化设计高精度真空计结合电动蝶阀实时控制炉内真空度。上称重传感器用于晶棒直径的辅助控制。分子泵，真空泵，真空流量计，plc编程，控制屏，离子泵，涡轮分子泵，螺杆真空泵，涡旋高真空泵，